电子工业用氯化氢@@主要用于半导体制程中的清洗和蚀刻@@。产品规格为@@5N，具体规格见下表@@：

项@@  目@@	指@@  标@@
HCl Purity (VF/10-2)               ≥	99.999
CO2  (VF/10-6)                      ≤	2
CO   (VF/10-6)                     ≤	0.5
CH4  (VF/10-6)                      ≤	1
N2   (VF/10-6)                     ≤	2
O2+Ar(VF/10-6)                     ≤	1
H2O  (VF/10-6)                     ≤	1
Fe   (Wcr/10-6)                    ≤	0.1
Other Metals (Wcr/10-6)            ≤	1
Particle (ppcf@＞0.1μm)          ＜	10

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